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Plasma2000鋼研納克全譜ICP光譜儀

鋼研納克全譜ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗(yàn),數(shù)十項(xiàng)ICP檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的起草單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018起草單位,重大科學(xué)儀器專項(xiàng)《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,懂ICP應(yīng)用的國(guó)產(chǎn)ICP光譜儀制造商。

更新時(shí)間：2023-10-30型號(hào)：Plasma2000廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

現(xiàn)在聯(lián)系

Plasma3000鋼研納克雙向觀測(cè)ICP光譜儀

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更新時(shí)間：2023-10-30型號(hào)：Plasma3000廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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